本设备为电阻蒸发镀膜系统，是一种利用电阻加热使膜材汽化蒸发后凝结在基片上成膜的加热镀膜方法，该方法结构简单、实用，蒸发速度快，适用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等等，即可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作需要，也可用于小批量，高精度薄膜材料制备工作。
本系统主要由箱型真空室，前开门组件，热蒸发电极，旋转基片台，工作气路，抽气系统，真空测量，安装机台及电控系统等部分组成。工作原理：电阻蒸发镀膜设备的原理是利用加热器提供的热能将坩埚内的金属蒸发至清洁的样品表面，以实现镀膜的过程。
技术指标：极限真空度6.67*E-5Pa；系统真空检漏漏率5.0*E-7（PaL/S)；系统经大气抽气，45分钟可以达到6.67*E-4（Pa）；停泵关机12小时后真空度(Pa)。
系统主要组成
真空室组件：U型真空室尺寸500mm*500mm*600mm，四壁水道冷却，壁挂防污板，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。旋转基片台：基片架采用球面拱形结构，可同时装52片样品，通过特殊卡具可以很方便的对产品进行装卸。基片架可以连续转动，转速5-30转/分。
安装机台架组件：采用优质方钢型材（50mm*50mm*4mm）焊接成，前面和两侧面安装快卸围板，表面喷塑处理；机台表面不锈钢蒙皮装饰；底面安装四只脚轮，可固定，可移动；安装机架尺寸：1040长*850宽*880高。 |
